HOME
BUENO GROUP
新網頁
PRODUCT
CONTACT US
CATALOG
More
3D NIR Substrate Automated Metrology
採用近紅外光(NIR)斷層掃描技術,針對 TSV結構進行非破壞式三維檢測。利用近紅外光在矽材料中的穿透特性,透過多深度掃描與光學背向散射訊號分析,重建內部結構模型,用以分析 TSV 內部結構與缺陷分佈。主要應用情境: TSV depth、RST、Via diameter (surface and bottom)、Inner crack
MODULE 01
利用近紅外光對矽材料的高穿透性,配合多深度掃描與光學背向散射訊號分析,無需破壞樣品即可重建玻璃內部之三維結構模型。
MODULE 02
具備針對玻璃材料內部的深度解析能力,可精確捕捉製程中產生的隱蔽性瑕疵。主要檢測項目包含TSV depth、RST、Via diameter (surface and bottom)、Inner crack
MODULE 03
透過高精度的三維結構資訊量測。
MODULE 04
針對 3D 重建需時較長的特性,系統提供彈性的檢測定位策略。可對接前段如2D/2.5D的檢測結果進行特定缺陷覆判,針對疑似過殺或不良區域進行精細確認,並透過抽樣模式取得關鍵結構數據,兼顧產線通量與檢測深度。
為您的生產線引入 工業級視覺精度
和全豐的技術專家團隊隨時待命,為您量身打造最合適的瑕疵檢測方案。